2024년 05월 09일(목) 콜로퀴움 안내입니다.

연사 : 김호철 박사님(삼성전자)

시간 : 16시 30분

강연장소 : 5E408

강연주제 : EUV Lithography 소개

강연내용 : 반도체공정의 8대 대표공정인 photolithography에 대한 간략한 소개와 함께 지난 30년 이상 반도체 기술을 이끌어온 shrinkage전략에 대하여 설명하고, Shrinkage를 drive하는 photo공정의 resolution한계 극복을 위한 기술발전 및 신기술 도입의 역사를 통하여 현재의 EUV lithography까지 발전되는 과정을 소개하고자 한다. EUV lithography가 기존의 photo기술과의 차이는 반사형 photomask, 반사형 광학계, 진공조건에서의 동작, 고출력 EUV source구현의 어려움 등 여러 가지가 있으며, 이에 따른 defect free photomask개발, 고출력 EUV light source 개발, EUV 특화 OPC 공정개발, 노광과정에서 발생하는 defect(particle)제어 기술 개발, EUV에 의한 optics반사막 손상 제어 등 여러 가지 필수기술 개발을 설명하고, 향후 반도체 기술발전에 요구되는 추가 필요기술이 EUV lithography에서 무엇인지를 고민하는 것에 대하여 설명하고자 한다.